




在pcb打样中,化学镍钯金与电镀镍金罚区别:
电镀镍金,通过电镀的方式,使金粒子附着到pcb板上,因为附着力强,又称为硬金;在pcb打样中,使用该工艺,可---增加pcb的硬度和耐磨性,能有效防止铜和其他金属的扩散,而且能适应热压焊与钎焊的要求。
相同点:
1.都属于印制线路板领域的一种重要的表面处理工艺;
2.主要的应用领域是打线连接工艺,都应对中电子电路产品。
不同点:
缺点:
1.化学镍钯金采用普通的化学反应工艺,相比较电镀镍金,其化学反应速率明显偏低;
2.化学镍钯金的药体系更为复杂,对生产管理和品质管理方面的要求更高。
优点:
1.化学镍钯金采用无引线镀金工艺,镀银厂,减少引线排布空间,相比较电镀镍金而言,更能应对更精密,更高的电子线路;
2.化学镍钯金综合生产成本---;
3.化学镍钯金无放电效应,在金手指圆弧率控制方面有更高的优势;
电镀基础知识:影响镀层烧焦的因素
配合物电镀
一方面,与简单盐电镀一样,阴极界面液层中h+放电后ph 升高更快;另一方面,多数碱性条件下的配合物电镀,随着镀液ph 上升,在相同配合比时形成的配离子稳定,主盐金属离子放电更为困难,h+的放电则相对更易。正是由于这两方面原因,镀层更易烧焦。这也许是多数配合物电镀的允许阴极电流密度上限都较小的主要原因。
单从烧焦而言,---是对于简单盐电镀,ph 低些为好;但镀液ph 对镀液性能的影响是多方面的,应综合考虑各方面因素后确定较佳ph。比如ph 低时,光亮剂的吸附性能下降,需用量与消耗量都大增,造成有机杂质增加过快。因镍价上涨,有的镀镍液中主盐浓度控制得很低,这容易使镀层烧焦,镀银加工厂,为防止烧焦又要将ph 调得很低;但主盐浓度低了又会出现光亮整平性下降等其他问题。故ph 过低并非好事。电镀技术的复杂性之一就在于不能简单地根据某一种需求而随意改变配方与工艺条件,而应综合权衡得失。
镀液中ph 缓冲剂过少
镀液中的ph 缓冲剂不仅对镀液本身ph 有缓冲作用,更重要的是对阴极界面液层ph 的缓冲作用。当其含量低时,高阴极电流密度区因其本底浓度低,同样因镀液中浓度低,缓冲剂向阴极界面液层扩散的速度下降,其对阴极界面液层中ph 的缓冲作用差,h+稍一放电,界面液层中ph 上升更快,镀层更易烧焦。镀镍、氯化甲镀锌液中的缓冲剂──硼酸,还具有细化镀层结晶、提高镀层光亮性等作用,所以非但不能缺,而且应根据不同液温条件,尽量多加至不结晶析出为宜。不少人很不注重氯化甲镀锌液中硼酸的及时补加,所以电镀上不了---。
电镀基础知识:影响镀层烧焦的因素
任何电镀工艺条件中都规定有相应工艺允许的阴极电流密度(一般指平均电流密度)的范围。即使镀液成分、液温、ph、搅拌等条件均正常时,所施加的阴极电流密度过大,超过工艺允许的上---,芜湖镀银,镀层也易烧焦。电镀直流电源应均可从0 v 起连续调压,正是为了适应将电流密度调整到较佳值的需要。对于定型产品或尺寸镀铬件,可根据槽中工件的表面积来确定所采用的总电流。对于非定型产品,则只能灵活掌握。根据相应工艺,对电流进行灵活调整,是电镀熟练操作人员应具有的基本素质之一。电流过小时,生产效率低,低电流密度区镀层光亮性、整平性下降,深镀能力差;若电流过大,则工件易烧焦。在大生产中,常见几种---操作方式:
(1) 随意开电,掌握不了较佳值,其中也包括实际经验不足。如氯化甲镀锌时,工件上不冒氢气泡,说明电流肯定小;大冒氢气泡处,则必然产生烧焦;较佳情况是工件尖角凸起处略冒氢气泡。不锈钢或镍上闪镀镍时,必须大冒气泡,否则活化作用---。酸性亮铜不允许冒氢气泡,否则冒泡处必然烧焦。
(2) 手工操作时整槽工件取出部分后不及时减电,余下部分电流密度过大,---是空缺边上的一挂上电流密度较大,很易烧焦。
(3) 取完工件后也不降低整流器输出电压,表面镀银,再放入的少量几挂电流过大,入槽即烧焦。电镀镍等易钝化金属时,因双性电极现象过强,局部还易起皮。正常操作是依槽中工件多少,及时增减电流。
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